电子高纯气体三氟化氮（Nitrogen Trifluoride，NF3）是三氟化氮应用在微电子制业中作为重要的工艺辅助材料。当前，它与硅烷（SiH4）、氨气被称为电子工业领域中应用的三大重要气体。三氟化氮在微电子制造中作为一种优良的等离子蚀刻气体和CVD 室清洗气体， 同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量运用。过去，三氟化氮只是主要在集成电路制造中得到应用，而近年三氟化氮已开始大量用于液晶显示器和光伏（薄膜太阳能电池）等领域。这也使得三氟化氮的产销量在近年得到大幅度的扩大，给这个产品市场与技术的发展注入了活力。据统计，2011年世界NF3的产销量已增加到8410吨，其产能扩大到11210吨。2005年～2011年的七年间世界NF3的实际生产量年平均增长率为19.4 。
我国是一个半导体产业、光伏产业、显示器产业生产及应用的大国，在发展这些新兴产业的同时，必不可缺少的需要发展它所用的三氟化氮。半个多世纪以来，我国国内企业在NF3的开发、生产方面相当薄弱，在我国的多个应用领域中所使用的NF3，很大部分还依赖从国外进口。发展我国高纯硅烷制造业已成为当务之急、势在必行。
本研究报告是在对国内外大量资料的收集、走访众多企业及业界专家进行调研、并对所收集的资料、信息进行认真的整理、核实、分析研究的基础上产生的。本研究报告对NF3在发展微电子业中的重要地位、电子工程中对NF3的主要性能要求以及国内外所执行的权威标准、世界及我国NF3的市场需求状况及市场格局、各主要应用市场发展现况与趋势、NF3生产企业的现况（包括国内外主要生产厂家）等方面，都作了详尽全面的阐述和分析。
《2012版电子特种气体——三氟化氮（NF3）行业市场调查研究分析报告》是提供给有意发展三氟化氮业者及企业、了解国内外此行业及其市场的经营者、关注此产业发展的机构等的一份时效性高的、具有很高价值的、权威的参考资料。
第一章 三氟化氮产品概述
1.1 电子特种气体三氟化氮概述
1.2 三氟化氮的产业与市场简述
1.2.1 三氟化氮的应用领域
1.2.2 三氟化氮的市场简况
1.2.3 三氟化氮的产业简况
1.3 三氟化氮行业的特点
1.3.1 行业兴衰与半导体、光伏、液晶显示产业发展有着关系密切
1.3.2 三氟化氮产品优势得到发挥
1.3.3 市场垄断性强
1.3.4 近年全球三氟化氮应用市场在迅速扩大
1.4 在当前环境保护要求的形势变化下三氟化氮产品发展前景成为变数
1.4.1 三氟化氮成为气候变化新威胁UNFCC已将其列入监管气体之中
1.4.2 三氟化氮替代产品得到发展
第二章 电子特种气体、氟化工品应用市场
2.1 电子特种气体概述
2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面
2.3 电子特种气体的纯净度要求
2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题
2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题
2.4.2 气体配送及供应问题
2.4.3 储存、使用中的安全性问题
2.4.4 成本性问题
2.5 国内外电子特种气体行业发展概述
2.5.1 境外电子特种气体生产与市场情况
2.5.2 国内电子特种气体行业及其发展
The 2012 edition of the electronic specialty gases - nitrogen trifluoride ( NF3 ) industry market research analysis report
2.6 氟化工产业概述
2.6.1 氟化工产业中的重要产品
2.6.2 我国氟化工产业发展情况
第三章 三氟化氮的主要特性
3.1 物理特性
3.2 毒性及危险性
3.3 反应性
3.4 相关的安全性
3.5 主要性能及标准
3.5.1 对纯度的一般质量指标要求
3.5.2 美国气体及化学产品公司的NF3的工业标准及产品不同等级标准要求
3.5.3 SEMI的三氟化氮标准
3.5.4 三氟化氮 我国国家标准（GB/T 21287-2007）
第四章 三氟化氮的主要生产工艺方法
4.1 NF3的制备方法
4.1.1 概述
4.1.2 直接化合法
4.1.3 氟和氟化氢铵法
4.1.5 电解法
4.2 NF3粗品纯化工艺加工
2012版電子特種氣體——三氟化氮（NF3）行業市場調查研究分析報告
4.2.1 NF3粗品纯化工艺法的种类
4.2.2 低温精馏法
4.2.3 化学吸收法
4.2.4 化学转化法
4.2.5 选择吸附法
4.3 安全生产的问题
4.4 在半导体晶元工厂的供应系统
第五章 三氟化氮的主要应用领域概述
5.1 概述
5.2 三氟化氮在集成电路中的应用
5.2.1 集成电路芯片制程
5.2.2 化学气相沉积和气体应用
5.3 作为清洗剂、刻蚀剂在半导体制造中的应用
5.3.1 替代PFC作为清洗剂
5.3.2 等离子增强化学气相沉积（PECVD）
5.3.3 在PECVD的干刻蚀、清洗加工中的应用
5.3 三氟化氮在液晶显示器中的应用
5.4 高纯NF3在薄膜硅太阳电池中的应用
5.4.1 非晶硅薄膜太阳能电池
5.4.2 Si薄膜的材料特性
2012 bǎn diànzǐ tèzhǒng qìtǐ——sān fú huà dàn (nf3) hángyè shìchǎng tiáo chá yánjiū fēnxī bàogào
5.4.3 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯硅烷其应用
5.5 用三氟化氮作氟化剂
5.5.1 六氟化钨的理化性质及用途
5.5.2 NF3是制造WF6
5.5.3 世界WF6 的生产现况
5.5.4 国内生产WF6的情况
5.6 三氟化氮作为氟源在化学激光器中应用
5.7 NF3在IC和TFT-LCD应用市场扩展的三阶段
5.8 NF3在不同应用领域中应用量的比例
第六章 世界及我国NF3的半导体市场调查与分析
6.1 世界半导体硅片生产与市场发展
6.1.1 世界半导体生产的现况
6.1.2 世界半导体硅片的生产状况
6.2 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展
6.2.1 我国集成电路市场、产业发展现状
6.2.2 我国集成电路晶圆制造业情况
6.2.3 我国集成电路晶圆主要生产厂家情况
第七章 世界及我国NF3的液晶显示器市场调查与分析
7.1 世界平板显示器产业发展现况
7.2 我国平板显示器产业现况与未来发展预测
電子特殊ガスの2012年版 - 三フッ化窒素（ NF3 ）業界の市場調査分析レポート
7.2.1 我国液晶显示产业发展概述
7.2.2 我国LCD面板生产现况与未来几年发展预测
7.2.3 我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析
第八章 世界及我国NF3的薄膜硅太阳电池市场调查与分析
8.1 国内外光伏产业的发展
8.1.1 世界光伏产业的快速发展
8.1.2 我国光伏产业发展环境与现况
8.2 薄膜太阳能电池的生产与市场
8.2.1 薄膜太阳能电池特点及品种
8.2.2 薄膜太阳能电池未来市场发展前景
8.2.3 薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化
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