8.3 国内外薄膜太阳能电池的主要生产企业
8.3.1 境外薄膜太阳能电池生产厂家概况
8.3.2 国内薄膜太阳能电池生产厂家概况
第九章 世界NF3的生产现状与发展
9.1 概述
9.2 世界三氟化氮生产现况
9.3 美国的NF3生产现状与厂家
9.3.1 美国AP公司
9.3.2 杜邦公司
9.4 日本的NF3生产现状与厂家
9.4.1 关东电化工业公司
9.4.2 三井化学公司
9.4.3 中央玻璃公司
9.5 韩国的NF3生产现状与厂家
9.5.1 AP公司韩国蔚山分厂
9.5.2 韩国SODIFF新素材有限公司
9.6 中国台湾的NF3生产现状与厂家
第十章 [:中智林]我国国内NF3的生产现状与发展
10.1 国内NF3生产的发展
10.2 国内NF3生产需求市场
10.3 国内NF3的主要生产厂家
10.3.1 国内NF3的生产厂家概述
10.3.2 中核红华特种气体股份有限公司
10.3.3 湖北沙隆达天门农化有限责任公司
10.3.4 中国船舶重工集团第七一八研究所
10.3.5 其它厂家
10.4 国内与NF3气体相关的科研、协会机构
附件：中华人民共和国国家标准：《电子工业用三氟化氮 》（GB/T21287-2007）
图表目录
图2-1 半导体制造业用特种气体按其使用时的特性分类情况
The 2012 edition of the electronic specialty gases - nitrogen trifluoride ( NF3 ) industry market research analysis report
图2-2 全球半导体工业用主要几种高纯度气体的市场规模变化情况
图2-3 氟化工产业链的构成情况
图3-1 NF3分子结构图
图3-2 SEMI标准中NF3中 CF4、CO2、N2O、SF6和 CO 的分析流程图
图4-1 气-固反应器图
图4-2 气-液反应器图
图4-3 气-液反应法的生产流程图
图4-4 电解槽结构图
图4-5 低温精馏过程示意图
图4-6 色谱分离气体流程图
图4-7 典型半导体晶元工厂的特气供应系统流程图
图5-1 三氟化氮的主要应用领域
图5-2 IC硅片制造前工程的过程
图5-3 各种CVD法反应装置的原理
图5-4 PECVD装置
图5-5 三氟化氮在半导体芯片加工制造环节中的应用示意图
图5-6 TFT 阵列构成
图5-7 等离子体CVD加工工序及SiH4等电子特气的供应系统
图5-8 所示了采用等离子体CVD法制作TFT阵列的实际装备例
图5-9 TFT 阵列形成过程及NF3在采用等离子体CVD法形成TFT 阵列形成中作用
2012版電子特種氣體——三氟化氮（NF3）行業市場調查研究分析報告
图5-10 Si基薄膜的种类、特征及晶体结构
图5-11 Si基薄膜太阳能电池的基本结构
图5-12 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺过程
图5-13 NF3不同应用领域中应用量的比例
图6-2 世界不同直径尺寸硅片市场发展趋势
图6-5 全球硅片出货量按尺寸计预测
图6-8 我国主要集成电路晶圆的生产厂家分布情况
图7-1 2008年-2013年世界液晶显示器面板出货量统计及预测
图7-2 2004-2010年平板电视在世界主要国家、地区的普及情况
图7-3 2005～2013年我国LCD面板的市场规模统计、预测
图7-4 我国TFT-LCD面板的产能统计及未来几年发展预测
图7-5 2005年2014年我国TFT-LCD面板各代线在国内总产能的比例变化
图7-6 我国主要集成电路晶圆生产厂家分布情况
图8-1 全球光伏市场构成
图9-1 2004年至2011年世界NF3实际生产量及生产能力的统计
图9-2 2005年至2011年世界NF3实际生产量及生产能力年增长率变化
图9-3 2011年 世界主要生产企业NF3产品的市场份额
图9-4 世界NF3主要国家、地区的生产产能及产能占世界总产能比例
图9-5 日本1999年～2010年的NF3实际产量（国内部分）统计
图10-1 我国NF3气体市场需求量的统计及预测
2012 bǎn diànzǐ tèzhǒng qìtǐ——sān fú huà dàn (nf3) hángyè shìchǎng tiáo chá yánjiū fēnxī bàogào
表2-1 电子特种气体的主要品种及分类
表2-2 常见的电子特种气体不同纯度要求的分类
表2-3 国外主要大型电子特气企业在主导生产工艺路线及所达到纯度的情况
表3-1 NF3物理性质
表3-2 4N高纯NF3的主要质量指标要求
表3-3 AP公司的NF3的工业标准
表3-4 AP公司四个等级的NF3技术标准指标要求
表3-5 SEMI标准中规定的NF3的物理常数值
表3-6 SEMI标准中的技术要求和化学技术要求
表3-7 三氟化氮国标标准（GB/T 21287-2007）的情况
表3-8 GB/T 21287-2007中规定的三氟化氮的技术指标
表3-9 GB/T 21287-2007中的三氟化氮的主要物理参数
表4-1 NF3的各种制备方法及其采用主要生产厂家
表6-3 SEMI对世界硅片的出货量的统计及预测
表6-4 硅片尺寸﹑质量要求与所对应的集成电路工艺技术的发展
表6-7 我国集成电路晶圆制造业在半导体产业中占有的比重情况
表6-9 我国集成电路晶圆制造6英寸以上生产线产能和工艺技术水平情况
表6-10 至2011年底我国主要集成电路晶圆的生产厂家产能情况
表7-1 LCD中下游市场的划分
表7-2 全球平板显示器在不同应用的需求市场的规模
電子特殊ガスの2012年版 - 三フッ化窒素（ NF3 ）業界の市場調査分析レポート
表7-3 2013年全世界G5以上TFT-LCD产能比较
表7-4 我国TFT-LCD液晶面板线分布
表7-5 我国主要集成电路晶圆的生产厂家产能情况（至2011年底）
表8-5 近几年全球薄膜太阳能电池产量及市场份额
表8-6 国外主要薄膜太阳能电池生产厂家
表8-7 境外薄膜太阳能电池生产厂家情况
表8-8 我国国内薄膜太阳能电池生产厂家的情况
表9-1 2011年世界NF3主要生产企业的产能、产量情况
表10-1 国内三氟化氮主要生产企业及产能情况（以2011年为计）
表10-2 在我国国内与NF3气体业相关的协会机构
表10-3 我国开展过对NF3气体研究的相关科研单位
略……
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