| 9.4.1 关东电化工业公司 |
| 9.4.2 三井化学公司 |
| 9.4.3 中央玻璃公司 |
9.5 韩国的NF3生产现状与厂家 |
| 9.5.1 AP公司韩国蔚山分厂 |
| 9.5.2 韩国SODIFF新素材有限公司 |
9.6 中国台湾的NF3生产现状与厂家 |
第十章 中-智-林－我国国内NF3的生产现状与发展 |
10.1 国内NF3生产的发展 |
10.2 国内NF3生产需求市场 |
10.3 国内NF3的主要生产厂家 |
| 阅读全文：https://www.20087.com/M_ShiYouHuaGong/76/SanFuHuaDanDeXianZhuangHeFaZhanQuShi.html |
| 10.3.1 国内NF3的生产厂家概述 |
| 10.3.2 中核红华特种气体股份有限公司 |
| 10.3.3 湖北沙隆达天门农化有限责任公司 |
| 10.3.4 中国船舶重工集团第七一八研究所 |
| 10.3.5 其它厂家 |
10.4 国内与NF3气体相关的科研、协会机构 |
| 附件：中华人民共和国国家标准：（GB/T21287-） |
| 图表目录 |
| 图2-1 半导体制造业用特种气体按其使用时的特性分类情况 |
| 图2-2 全球半导体工业用主要几种高纯度气体的市场规模变化情况 |
| 图2-3 氟化工产业链的构成情况 |
| 图3-1 NF3分子结构图 |
| 图3-2 SEMI标准中NF3中 CF4、CO2、N2O、SF6和 CO 的分析流程图 |
| 图4-1 气-固反应器图 |
| 图4-2 气-液反应器图 |
| 图4-3 气-液反应法的生产流程图 |
| 图4-4 电解槽结构图 |
| 图4-5 低温精馏过程示意图 |
| 图4-6 色谱分离气体流程图 |
| 图4-7 典型半导体晶元工厂的特气供应系统流程图 |
| 图5-1 三氟化氮的主要应用领域 |
| 图5-2 IC硅片制造前工程的过程 |
| Market Research and Development Trend Forecast Report of China Nitrogen Trifluoride (2025) |
| 图5-3 各种CVD法反应装置的原理 |
| 图5-4 PECVD装置 |
| 图5-5 三氟化氮在半导体芯片加工制造环节中的应用示意图 |
| 图5-6 TFT 阵列构成 |
| 图5-7 等离子体CVD加工工序及SiH4等电子特气的供应系统 |
| 图5-8 所示了采用等离子体CVD法制作TFT阵列的实际装备例 |
| 图5-9 TFT 阵列形成过程及NF3在采用等离子体CVD法形成TFT 阵列形成中作用 |
| 图5-10 Si基薄膜的种类、特征及晶体结构 |
| 图5-11 Si基薄膜太阳能电池的基本结构 |
| 图5-12 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺过程 |
| 图5-13 NF3不同应用领域中应用量的比例 |
| 图6-1 2025-2031年全球半导体市场规模和年增幅统计预测 |
| 图6-2 世界不同直径尺寸硅片市场发展趋势 |
| 图6-3 2025-2031年全球硅片出货量变化率 |
| 图6-4 2025-2031年全球硅片销售收入变化率 |
| 图6-5 全球硅片出货量按尺寸计预测 |
| 图6-6 2025-2031年我国半导体及集成电路产销情况 |
| 图6-7 2025-2031年我国集成电路晶圆业发展规模 |
| 图6-8 我国主要集成电路晶圆的生产厂家分布情况 |
| 图7-1 2025-2031年世界液晶显示器面板出货量统计及预测 |
| 图7-2 2025-2031年平板电视在世界主要国家、地区的普及情况 |
| 图7-3 2025-2031年我国LCD面板的市场规模统计、预测 |
| 2025年中國三氟化氮市場調查研究與發展趨勢預測報告 |
| 图7-4 我国TFT-LCD面板的产能统计及未来几年发展预测 |
| 图7-5 2025-2031年我国TFT-LCD面板各代线在国内总产能的比例变化 |
| 图7-6 我国主要集成电路晶圆生产厂家分布情况 |
| 图8-1 全球光伏市场构成 |
| 图8-2 2025-2031年全球及我国光伏市场规模变化 |
| 图8-3 2025年全球各主要国家及地区光伏发电安装量的份额 |
| 图8-4 2025年全球主要电池组件企业市场份额分布情况 |
| 图8-5 2025-2031年中国太阳能电池出货量 |
| 图8-6 2025-2031年中国太阳能电池产量的统计及预测 |
| 图8-7 2025-2031年世界薄膜太阳能电池产能统计及预测 |
| 图8-8 2025-2031年世界薄膜太阳能电池产量统计及预测 |
| 图9-1 世界NF3实际生产量及生产能力的统计 |
| 图9-2 世界NF3实际生产量及生产能力年增长率变化 |
| 图9-3 世界主要生产企业NF3产品的市场份额 |
| 图9-4 世界NF3主要国家、地区的生产产能及产能占世界总产能比例 |
| 图9-5 日本NF3实际产量（国内部分）统计 |
| 图10-1 我国NF3气体市场需求量的统计及预测 |
| 表2-1 电子特种气体的主要品种及分类 |
| 表2-2 常见的电子特种气体不同纯度要求的分类 |
| 表2-3 国外主要大型电子特气企业在主导生产工艺路线及所达到纯度的情况 |
| 表3-1 NF3物理性质 |
| 表3-2 4N高纯NF3的主要质量指标要求 |
| 2025 nián zhōngguó Sān fú huà niǎn shìchǎng diàochá yánjiū yǔ fāzhǎn qūshì yùcè bàogào |
| 表3-3 AP公司的NF3的工业标准 |
| 表3-4 AP公司四个等级的NF3技术标准指标要求 |
| 表3-5 SEMI标准中规定的NF3的物理常数值 |
| 表3-6 SEMI标准中的技术要求和化学技术要求 |
| 表3-7 三氟化氮国标标准（GB/T 21287-）的情况 |
| 表3-8 GB/T 21287-中规定的三氟化氮的技术指标 |
| 表3-9 GB/T 21287-中的三氟化氮的主要物理参数 |
| 表4-1 NF3的各种制备方法及其采用主要生产厂家 |
| 表6-1 2025年世界主要大型半导体厂家的销售收入统计 |
| 表6-2 2025-2031年世界硅片出货量及销售收入情况 |
| 表6-3 SEMI对世界硅片的出货量的统计及预测 |
| 表6-4 硅片尺寸﹑质量要求与所对应的集成电路工艺技术的发展 |
| 表6-6 2025-2031年我国国内半导体级晶圆产量变化统计 |
| 表6-7 我国集成电路晶圆制造业在半导体产业中占有的比重情况 |
| 表6-8 2025-2031年我国晶圆生产线建线增长情况 |
| 表6-9 我国集成电路晶圆制造6英寸以上生产线产能和工艺技术水平情况 |
| 表6-10 至2024年底我国主要集成电路晶圆的生产厂家产能情况 |
| 表7-1 LCD中下游市场的划分 |
| 表7-2 全球平板显示器在不同应用的需求市场的规模 |
| 表7-3 全世界G5以上TFT-LCD产能比较 |
| 表7-4 我国TFT-LCD液晶面板线分布 |
| 表7-5 我国主要集成电路晶圆的生产厂家产能情况（至2024年底） |
| 2025年の中国の三フッ化窒素市場調査研究と発展動向予測レポート |
| 表8-1 2025年全球各主要国家及地区光伏发电安装量统计 |
| 表8-2 2025年全球主要电池组件企业产能产量情况 |
| 表8-3 2025-2031年我国太阳能电池出口情况 |
| 表8-4 2025-2031年我国太阳能电池进口情况 |
| 表8-5 近几年全球薄膜太阳能电池产量及市场份额 |
| 表8-6 国外主要薄膜太阳能电池生产厂家 |
| 表8-7 境外薄膜太阳能电池生产厂家情况 |
| 表8-8 我国国内薄膜太阳能电池生产厂家的情况 |
| 表9-1 世界NF3主要生产企业的产能、产量情况 |
| 表10-1 国内三氟化氮主要生产企业及产能情况（以2025年为计） |
| 表10-2 在我国国内与NF3气体业相关的协会机构 |
| 表10-3 我国开展过对NF3气体研究的相关科研单位 |
略……
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